【个人简介】
刘利芹，女，副研究员，生于1984年，中共党员，研究生学历，博士学位。2018年毕业于中国科学院大学，光学工程专业。现任电子科学与技术系主任和党支部书记职务。
【研究方向】
1．微电子器件与技术（微纳器件的制备）
2．光电子器件及应用（高损伤激光薄膜）
【在研项目】
1．基于掺杂TeOx无机相变高分辨光刻胶研究，永利8855官网入口人才引进科研启动项目，项目负责人。
2．磷锗锌晶体的高激光损伤增透膜研发，预演项目，项目负责人。
【完成项目】
1．光刻工艺和功能器件，国家财政部重大装备研制项目，课题负责人，2018年12月完成。
2．高分辨光刻胶材料，国家财政部重大装备研制项目，课题负责人，2018年12月完成。
3．氧化铈薄膜样品制备与表征，横向项目，课题负责人，2024年03月完成。
【发表论文】
1. Batch Fabrication of Metasurface Holograms Enabled by Plasmonic Cavity Lithography, Adv. Opt. Mater. 2017, 5:1700429-1700439. (IF 7.43，Q1，封底文章，第一作者)
2. Large area and deep sub-wavelength interference lithography employing odd surface plasmon modes[J]. Sci. Rep., 2016, 6: 30450-304507 (IF 4.60, Q1，第一作者)
3. Realizing multimodal lithography effects by adjusting laser exposure power ranges for TeOx inorganic photoresist, Materials Research Express, 2024, 11(12): 126401 (IF 1.8, 第一作者)
4. One-step synthesis of fluorescent hydroxyls-coated carbon dots with hydrothermal reaction and its application to the optical sensing of metal ions. Sci. China Chem. 2011, 54: 1342. (IF 1.33，第一作者)
5. ENSOR CHIP PREPARATION METHOD, SENSOR CHIP, AND APPLICATION, F/PT/NC/O/2024/14571 (授权专利，第一作者)
6. 一种中红外宽带增透膜及其制备方法和应用，202510224215.X（发明专利，第一作者）
7. 一种近红外长波下高激光损伤阈值氧化钽薄膜及其制备方法，202510225392X（发明专利，第一作者）
8. 多种方法制备SiO2薄膜及其性能研究, 材料导报, 2024, 38: 24020039 (通讯作者)
9. Highly selective detection of phosphate in very complicate matrixes with off-on fluorescent probe of europium-adjusted carbon dots. Chem. Commun. 2011, 47, 2604 (IF 6.226, Q1，第二作者)
10. Laser-Etched Array-Patterned Lead Oxide Polycrystalline Thin Film for Direct Conversion Flexible X-ray Detector Application, ACS Applied Electronic Materials, 2024, 6(5): 24020039 (IF 4.4, 第六作者)
【获奖情况】
1. 中国科学院杰出科技成就奖（主要完成者）
2. 第七届全国高校电子信息类专业青年教师授课，华西赛区二等奖
3. 都信息工程大学第五届教师教学创新大赛，二等奖
4. 都信息工程大学第四届教师教学创新大赛，三等奖
5. 永利8855官网入口第十二届多媒体课件大赛，三等奖
【联系方式】
电子邮件：liqin0909@cuit.edu.cn
办公电话：
手机号码：
ＱＱ号码：331532971
